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磁控濺射鍍膜機(jī)是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射鍍膜機(jī)原理：磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片，Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以...

激光直寫(xiě)技術(shù)是一種近年來(lái)應(yīng)用廣泛的超精密加工技術(shù)。該技術(shù)是一種利用強(qiáng)度可變的激光束，在基片表面實(shí)施有規(guī)則的高精度掃描。在掃描過(guò)程中，光刻基片隨載物平臺(tái)而運(yùn)動(dòng)。因此影響光刻元件的質(zhì)量取決于載物平臺(tái)的定位精度以及運(yùn)動(dòng)的穩(wěn)定性，影響光刻元件的快速性取決于系統(tǒng)的響應(yīng)度?；跀?shù)字式伺服的運(yùn)動(dòng)控制器是超精密定位系統(tǒng)的關(guān)鍵。由于數(shù)字伺服濾波器是數(shù)字式伺服的運(yùn)動(dòng)控制器的核心，從而數(shù)字伺服濾波器的設(shè)計(jì)將影響系統(tǒng)的定位精度。數(shù)字伺服濾波器是指系統(tǒng)的閉環(huán)控制與調(diào)節(jié)采用數(shù)字技術(shù)，所有控制調(diào)節(jié)實(shí)現(xiàn)軟件...

超聲波風(fēng)速儀的原理是測(cè)量超聲波脈沖在兩個(gè)探頭之間傳播的時(shí)間來(lái)計(jì)算空氣移動(dòng)的速度，也就是風(fēng)速。當(dāng)空氣移動(dòng)時(shí)，超聲波在兩個(gè)探頭之間的時(shí)間會(huì)變長(zhǎng)或變短。超聲波在空氣里就像水里的魚(yú)，水的流動(dòng)方向，順流而下或逆流而上，會(huì)影響?hù)~(yú)行進(jìn)的速度。傳統(tǒng)常見(jiàn)的超聲波風(fēng)速儀，它有一個(gè)超聲波發(fā)射探頭，三個(gè)超聲波接收探頭。這樣，就可以測(cè)量在二維平面上3個(gè)方向上的風(fēng)速。而Sonic超聲波風(fēng)速儀該系統(tǒng)包括：?jiǎn)屋S、雙軸或三軸探頭陣列，以及其他幾種新型探頭陣列設(shè)計(jì)。這些設(shè)計(jì)減少了流動(dòng)不對(duì)稱(chēng)和結(jié)構(gòu)構(gòu)件干擾造成的誤...

球磨測(cè)厚儀的正確操作步驟：操作步驟：1.開(kāi)機(jī)：裝入電池后按紅色按鍵或?qū)x器探頭垂直接觸被測(cè)物體表面并壓實(shí)，儀器將自動(dòng)開(kāi)機(jī)。（使用時(shí)務(wù)必要使探頭垂直接觸被測(cè)物表面并壓實(shí)，禁止接觸狀態(tài)下橫向滑動(dòng)探頭，以免劃傷探頭前端紅寶石。每次測(cè)量后將儀器拿起，離開(kāi)被測(cè)物10cm以上，再進(jìn)行下次測(cè)量。）2.設(shè)置：球磨測(cè)厚儀開(kāi)機(jī)后按紅色按鍵進(jìn)入菜單，QNix4500為4個(gè)選項(xiàng)，QNix4500為2個(gè)選項(xiàng)：“Fe”為磁性金屬基體模式，“NFe”為非磁性金屬基體模式（僅QNix4500），“Fe/NF...

勻膠機(jī)(SpinCoater)用于晶片基底材料的表面光刻膠涂覆。勻膠機(jī)由樣品臺(tái)、滴膠裝置和空心電動(dòng)機(jī)組成，其工作原理是，通過(guò)在樣品臺(tái)上產(chǎn)生負(fù)壓將需要旋涂的基底材料吸附在樣品臺(tái)上，光刻膠液滴注在基底材料的表面，通過(guò)準(zhǔn)確控制電動(dòng)機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度，以此來(lái)改變離心力的大小，同時(shí)通過(guò)控制膠液的流量來(lái)達(dá)到制備薄膜所需的厚度。常用的滴膠方式分為兩種：即靜態(tài)滴膠和動(dòng)態(tài)滴膠。靜態(tài)滴膠是在基片靜止時(shí)將光刻膠滴注到基片的中心位置，滴膠量約為1-10ml,但在滿(mǎn)足厚度需求的前提下，滴膠量還應(yīng)根據(jù)光刻膠的...

多功能磁控濺射儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。工作原理：是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片，Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用，產(chǎn)生E(電場(chǎng))×B(磁場(chǎng))所指的方向漂移，簡(jiǎn)稱(chēng)E×B漂移，其運(yùn)動(dòng)軌...