隨著微電子技術(shù)和納米技術(shù)的快速發(fā)展,光刻技術(shù)成為了半導(dǎo)體制造和高精度微加工中的核心技術(shù)。尤其是半自動光刻機,憑借其較高的性價比和較為靈活的操作模式,已經(jīng)在許多高精度微加工領(lǐng)域中得到了廣泛應(yīng)用。一、半自動光刻機的工作原理光刻技術(shù)通過利用光敏材料(光刻膠)在紫外光或激光照射下發(fā)生化學(xué)...
快速動力學(xué)停流裝置是當(dāng)今市場上好的多路混合停流裝置,淬滅裝置,快速混合溫度突變等裝置系統(tǒng),杰出的產(chǎn)品設(shè)計解決您快速動力學(xué)應(yīng)用中的所有需要。快速動力學(xué)停流裝置節(jié)省樣品,自動濃度依賴性實驗研究以及兩路混合實驗研究,適用所有光學(xué)模式:吸收,熒光,圓二色,熒光各向異性光譜等測定比色池多樣性。快速動力學(xué)停流裝置的流量控制,可擴展溫度適用范圍,可更換SFM附件,應(yīng)用于:化學(xué)淬滅,光學(xué)淬滅以及光學(xué)延時,冷凍淬滅,X-射線散射停流,中子色散停流,EPR停流,低溫停流,自動滴定,停流電導(dǎo),快速...
皮可安培計的核心優(yōu)勢及產(chǎn)品特點皮可安培計的測試需要把測試電壓或強制電壓施加到器件的輸入端,并測量導(dǎo)致的任何泄漏電流和偏移電流,這經(jīng)常是在1pA或更低的級別進(jìn)行的,使器件測試吞吐速度達(dá)到很高。表面貼裝元件的廣泛使用使它的印制電路板空間要求降到了低,并使多個測量電路的封裝能靠近測試夾具,可選帶上下限報警控制功能,用軸承支持活動部分的儀表,不可避免地會存在摩擦而產(chǎn)生的摩擦力矩,它會在不同程度上阻礙活動部分的運動,使活動部分停在偏離真實平衡位置的地方,致使儀表指示產(chǎn)生誤差。皮可安培計...
表面光電壓譜保證良好的波長準(zhǔn)確度和重復(fù)性表面光電壓譜一體整合,空間更緊湊,操作更簡便;高精度,自動化,數(shù)字化,讓實驗數(shù)據(jù)更準(zhǔn)確;高均勻可調(diào)節(jié)光纖光源,特別為光電極輻照設(shè)計。半導(dǎo)體材料的光生電壓性能的測試分析,可開展光催化等方面的機理研究,應(yīng)用于太陽能電池、光解水制氫等方面的研究,研究光生電荷的性質(zhì),如:光生電荷擴散方向;解析光生電荷屬性等。表面光電壓譜模組化設(shè)計,緊扣用戶需求,經(jīng)濟靈活,適用面廣,升級、改造、維護(hù)均很方便,可選大功率鹵鎢燈及大功率氙燈光源,也可使用用戶已有或的...
氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器在質(zhì)量控制中有著廣泛應(yīng)用氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器基于單一顆粒的光散射的原理測量顆粒粒徑分布,而無需假設(shè)特定分布,例如對數(shù)正態(tài)粒徑分布,該方法將高敏感性、高準(zhǔn)確性和高速測量結(jié)合起來,并實現(xiàn)對高濃度氣溶膠顆粒的粒徑分布的測量。氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器采用近前向散射技術(shù),使得顆粒形狀和折射率對測量結(jié)果的影響降至低,并專為高濃度氣溶膠顆粒的測量進(jìn)行了設(shè)計,技術(shù)上的解決解決方案就是通過空氣動力學(xué)及光學(xué)聚焦產(chǎn)生一個足夠小的測量體積,小的測量體積能夠有效降低重疊誤差...
激光直寫提高工作量和用戶安全程度激光直寫光刻機是桌面型高分辨率激光光刻系統(tǒng),它通過固定連續(xù)的375nm或405nm紫外光源在光刻膠或紫外敏感膠中直接刻劃獲得微納結(jié)構(gòu),直寫面積高達(dá)4英寸,特征尺寸(寬度)可達(dá)1微米。激光直寫光刻機提供豎直和掃描直寫模式,確保直接軌跡偏離小于100nm,具有電動光學(xué)聚焦系統(tǒng),提供快速的聚焦功能,從而適合各種厚度襯底的要求,并具有晶圓裝載和卸載系統(tǒng)裝備到襯底室供客戶選配,增強清潔程度,提高工作量和用戶安全程度。激光直寫不僅具有無掩模板直寫系統(tǒng)的靈活...
電話
微信掃一掃