SpinCoater勻膠機(jī)是一種常用于薄膜制備的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于微電子、光電、材料科學(xué)等領(lǐng)域。它通過(guò)旋轉(zhuǎn)的方式將液態(tài)涂層均勻地涂布在基材表面,形成薄膜。本文將介紹其工作原理、操作方法以及應(yīng)用領(lǐng)域。一、工作原理SpinCoater勻膠機(jī)的核心原理是旋轉(zhuǎn)施加離心力。在操作過(guò)程中,基材...
皮可安培計(jì)又被人們稱為電流表,它主要的目的就是為了測(cè)量電流,安培計(jì)的類型也有很多種,比如有轉(zhuǎn)動(dòng)線圈式、熱偶式和轉(zhuǎn)動(dòng)鐵片式等等。安培計(jì)是用來(lái)測(cè)量電路中電流大小的儀器,學(xué)會(huì)正確的使用安培計(jì)對(duì)以后電路的學(xué)習(xí)和研究具有很重要的意義。下面小編給大家介紹一下安培計(jì)的使用方法。皮可安培計(jì)如何使用?1、接表:安培計(jì)必須串聯(lián)在待測(cè)電路中,使電流從安培計(jì)的“+”接線柱流入,從“-”接線柱流出。使用安培計(jì)的時(shí)候,它的兩個(gè)接線柱千萬(wàn)不能直接接到電源的兩極上,否則由于電流過(guò)大而將電流表燒壞。2、選擇表...
球磨測(cè)厚儀采用的高性能、低功耗微處理器技術(shù),基于超聲波測(cè)量原理,可以測(cè)量金屬及其它多種材料的厚度,并可以對(duì)材料的聲速進(jìn)行測(cè)量??梢詫?duì)生產(chǎn)設(shè)備中各種管道和壓力容器進(jìn)行監(jiān)測(cè),監(jiān)測(cè)它們?cè)谑褂眠^(guò)程中受腐蝕后的減薄程度,也可以對(duì)各種板材和各種加工零件作測(cè)量。球磨測(cè)厚儀測(cè)厚原理:1、千分尺:千分尺應(yīng)該能夠近測(cè)量5um。應(yīng)該安裝一個(gè)棘齒,以便限制主軸上的力施加在試驗(yàn)表面上。帶有平面測(cè)量面的千分尺頭被夾在帶有平坦的基板的堅(jiān)固架子上,架子的高度應(yīng)可以調(diào)整。測(cè)量面應(yīng)和基板的頂部平行對(duì)齊。2、度盤(pán)...
多功能磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。原理:磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下,在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子...
狹縫擠出式涂布機(jī)是一種利用激光對(duì)物體進(jìn)行轟擊,然后將轟擊出來(lái)的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段。歷史背景:早于1916年,愛(ài)因斯坦(AlbertEinstein)已提出受激發(fā)射作用的假設(shè)。可是,首部以紅寶石棒為產(chǎn)生激光媒介的激光器,卻要到1960年,才由梅曼(TheodoreH.Maiman)在休斯實(shí)驗(yàn)研究所建造出來(lái)??偣蚕喔袅?4年。使用激光來(lái)熔化物料的歷史,要追溯到1962年,布里奇(Breech)與克羅斯(Cross)利用紅寶石激光器,汽化與激發(fā)固體表...
狹縫擠出式涂布機(jī)應(yīng)用于鋰電池正、負(fù)極極片涂布工藝,是一款應(yīng)用狹縫擠出式涂布模頭對(duì)基材進(jìn)行非接觸式涂布的一款設(shè)備。該設(shè)備通過(guò)配置slotdie狹縫擠壓涂布模頭、精密計(jì)量供料系統(tǒng)與進(jìn)料閥體配合可實(shí)現(xiàn)連續(xù)涂布、條紋涂布、間歇涂布、網(wǎng)格涂布等涂布工藝。該設(shè)備也適用于對(duì)一些其它類型漿料及基材的涂布工藝。設(shè)備具有較高的涂布精度高,一致性和穩(wěn)定性好,可應(yīng)用于鋰離子電池、FCCL、光學(xué)薄膜、膠帶以及各種功能薄膜行業(yè),適合實(shí)驗(yàn)室或樣品線用于產(chǎn)品的工藝摸索。狹縫擠出式涂布機(jī)功能特點(diǎn):1、slot...
狹縫擠出式涂布機(jī)應(yīng)用于鋰電池正、負(fù)極極片涂布工藝,是一款應(yīng)用狹縫擠出式涂布模頭對(duì)基材進(jìn)行非接觸式涂布的一款設(shè)備。該設(shè)備通過(guò)配置slotdie狹縫擠壓涂布模頭、精密計(jì)量供料系統(tǒng)與進(jìn)料閥體配合可實(shí)現(xiàn)連續(xù)涂布、條紋涂布、間歇涂布、網(wǎng)格涂布等涂布工藝。該設(shè)備也適用于對(duì)一些其它類型漿料及基材的涂布工藝。設(shè)備具有較高的涂布精度高,一致性和穩(wěn)定性好,可應(yīng)用于鋰離子電池、FCCL、光學(xué)薄膜、膠帶以及各種功能薄膜行業(yè),適合實(shí)驗(yàn)室或樣品線用于產(chǎn)品的工藝摸索。適用于有機(jī)太陽(yáng)能電池OPV和鈣鈦礦太陽(yáng)...
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